目前,我國國家電子級水(高純水)標準將“高純水”分為四個等級,分別為電阻率18MΩ·cm以上、15MΩ·cm、12MΩ·cm、0.5MΩ·cm;美國ATSM根據(jù)超純水電阻率18.3MΩ·cm的理論極限值,將18.1MΩ·cm以上的超純水用水標準再細化為四個細分等級,成為當前電子和半導體行業(yè)常規(guī)參考的用水要求。

　　由此可見,生產(chǎn)芯片的用水并非日常可見的自來水,或者是純凈水,半導體工廠生產(chǎn)和清洗半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示器、高精度電路板、光電器件等各種電子器件的時候，都需要用到電阻率為18兆歐以上的超純水,這樣的超純水幾乎不導電，不會影響電子產(chǎn)品的性能，同時水中幾乎不含金屬離子，不會對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。當集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也就越高。

　　超純水設(shè)備是采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設(shè)備。萊特萊德超純水設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定地制備高質(zhì)量的超純水，不會因樹脂再生而停止運行。設(shè)備內(nèi)部還安裝有反滲透預脫鹽技術(shù)，再次從根本上確保了設(shè)備的出水質(zhì)量。同時，EDI處理裝置廢水產(chǎn)量少，不會污染環(huán)境，具有很高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益，具有廣闊的發(fā)展前景。

　　伴隨芯片市場的崛起,也為超純工藝技術(shù)企業(yè)帶來廣闊的機遇與挑戰(zhàn),科技不斷探索超純水的絕對純度，產(chǎn)水水質(zhì)接近絕對純度,電導率無限接近18.24MΩ•厘米的理論極限值,其純度可達99.9999999999%,不斷滿足半導體行業(yè)日趨提升的用水需求。